氢氟酸的用途

氢氟酸的用途 用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂。石墨灰分的去除、半导体（锗、硅）的制造。

用途：由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。

氢氟酸无色但有刺激性味道，腐蚀力如武侠小说中的“化骨水”，通常用于工业除锈或清洗，如半导体、主机板业、石化业、核电物质及冷媒等行业及大学以上实验室，都必须特别注意它的高危险性，某些工业用强力洗洁剂或除锈剂也含有氢氟酸，使用时须特别小心，避免伤害。

氢氟酸用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。

主要用途 用于蚀刻玻璃，以及制氟化合物 19 健康危害 侵入途径：吸入、食入。健康危害：对呼吸道粘膜及皮肤有强烈的 *** 和腐蚀作用；吸入高浓度的氟化氢可引起支气管炎和肺炎；吸收后可产生全身的毒作用，还可导致氟骨症。

应用于集成电路 （ I C）和超大规模集成电路 （VLSI）芯片的清洗和腐蚀 ，是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 ，还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前 ，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业 ，其他方面用量较少。